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notizie sull'azienda Risolvere la fragilità e il guasto ad alta temperatura, e superare le difficoltà di rinforzo della resina epossidica!

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La CINA Shenzhen Super- curing Opto-Electronic CO., Ltd Certificazioni
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Rassegne del cliente
Abbiamo cooperazione per molto molto tempo, siamo una buona esperienza.

—— Mike

Speri francamente ai noi potrà la cooperazione la volta prossima presto.

—— Bok

Gradisco la vostra torcia elettrica del leduv molto che è tenuto in mano e l'operazione molto facile.

—— Christophe

La lampada UV migliora notevolmente l'efficienza della nostra macchina serigrafica, è fantastica!

—— Alfie

La qualità dell'unità di polimerizzazione UV è eccellente; l'ho usata per più di un anno senza alcun problema.

—— Oliver

Questa lampada è perfetta per la polimerizzazione della serigrafia sui nostri imballaggi. La adoro.

—— Ethan.

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Risolvere la fragilità e il guasto ad alta temperatura, e superare le difficoltà di rinforzo della resina epossidica!
ultime notizie sull'azienda Risolvere la fragilità e il guasto ad alta temperatura, e superare le difficoltà di rinforzo della resina epossidica!
Risolvere la fragilità e i guasti ad alta temperatura e superare le difficoltà della polimerizzazione della resina epossidica!

  La polimerizzazione a luce ultravioletta (UV) delle resine epossidiche comporta la reazione fotochimica di sostanze fotosensibili nel sistema sotto l'influenza della luce ultravioletta per produrre particelle o radicali attivi, avviando così la reticolazione e la polimerizzazione delle resine attive nel sistema. Questa tecnologia non richiede l'uso di solventi organici e ha un inquinamento ambientale minimo. Offre inoltre vantaggi come la velocità di polimerizzazione rapida, il risparmio energetico, le elevate prestazioni del prodotto e l'idoneità per linee di produzione automatizzate ad alta velocità e il rivestimento su substrati sensibili al calore. Attualmente, i sistemi di polimerizzazione UV comunemente usati possono essere suddivisi in sistemi di polimerizzazione a radicali liberi e sistemi di polimerizzazione cationica in base ai diversi sistemi di iniziazione.

  I sistemi di polimerizzazione UV a radicali liberi offrono velocità di reazione elevate e proprietà facilmente regolabili, ma sono sensibili all'ossigeno, mostrano un forte ritiro durante la fotopolimerizzazione, mostrano scarsa adesione e faticano a polimerizzare completamente componenti tridimensionali. Di conseguenza, la polimerizzazione UV cationica è diventata un'area di ricerca e sviluppo calda negli ultimi anni. Anche i nuovi sistemi di fotopolimerizzazione ibridi in grado di fotopolimerizzazione sia a radicali liberi che cationica sono un'area attiva di ricerca e sviluppo. Inoltre, per espandere ulteriormente l'ambito di applicazione della fotopolimerizzazione e migliorare le prestazioni dei prodotti fotopolimerizzati, i sistemi a doppia polimerizzazione che combinano la fotopolimerizzazione con altri metodi di polimerizzazione sono anche in continua ricerca ed esplorazione.

  La fotopolimerizzazione cationica si riferisce al processo in cui un iniziatore cationico genera un acido protonico o un acido di Lewis sotto irradiazione di luce ultravioletta, formando un centro attivo di ioni positivi e avviando la polimerizzazione cationica ad apertura di anello. Rispetto alla polimerizzazione a radicali liberi foto-iniziata, la polimerizzazione cationica presenta le seguenti caratteristiche: a. È applicabile a un'ampia varietà di monomeri. Oltre ai monomeri e ai prepolimeri contenenti doppi legami insaturi, è applicabile anche a una varietà di monomeri e prepolimeri con tensione anulare, come acetali, eteri ciclici, epossidi, β-lattoni, solfuri e siliconi. b. Non è inibito dall'ossigeno e può raggiungere una polimerizzazione rapida e completa in un'atmosfera di aria, il che è favorevole alla produzione e all'applicazione pratica. c. Ha un effetto di post-polimerizzazione, che può ridurre il tempo di illuminazione nelle applicazioni pratiche, migliorare l'efficienza di produzione e la qualità del prodotto.

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  I sensibilizzatori comunemente usati sono fotoiniziatori a radicali liberi come pirene, antracene e tiazina, o tionxantenone e xantone, ma gli ultimi due possono essere usati solo in combinazione con sali di iodonio. Sono stati sintetizzati diversi esafluoroantimoniati di triarilsolfonio e utilizzati come fotoiniziatori per indagare sui fattori che influenzano la velocità di fotopolimerizzazione cationica dell'epossipolimetilsilossano (EPS) e della resina epossidica bisfenolo A E-44. I risultati hanno mostrato che la struttura e la concentrazione del fotoiniziatore, così come i sensibilizzatori come antracene, fenolo e tiazina, hanno tutti gradi variabili di influenza sulla velocità di fotopolimerizzazione. Questo metodo ha prodotto composizioni fotopolimerizzabili con velocità di polimerizzazione elevate ed eccellenti proprietà meccaniche, mostrando significative proprietà di post-polimerizzazione dovute alla polimerizzazione attiva. Si prevede che queste composizioni trovino applicazioni in applicazioni high-tech come rivestimenti fotopolimerizzabili, adesivi, sigillanti, materiali isolanti elettrici e confezionamento di componenti elettronici.

  In considerazione delle rispettive caratteristiche della fotopolimerizzazione a radicali liberi e della fotopolimerizzazione cationica, il sistema di fotopolimerizzazione ibrido radicale libero-cationico può completarsi a vicenda e sfruttare appieno i vantaggi di entrambi, ampliando così l'ambito di applicazione del sistema di fotopolimerizzazione.

  A tal fine, le persone hanno sviluppato un sistema a doppia polimerizzazione che combina la polimerizzazione a luce con altri metodi di polimerizzazione. La polimerizzazione a reticolazione del sistema viene completata attraverso due fasi indipendenti con diversi principi di reazione. Una fase è attraverso la reazione di polimerizzazione a luce e l'altra fase è attraverso la reazione al buio. La reazione al buio include la polimerizzazione termica, la polimerizzazione all'umidità, la reazione di polimerizzazione ossidativa, ecc.

Tempo del pub : 2025-10-18 09:51:18 >> lista di notizie
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