Industria:Optoelettronica e ottica di precisione
Applicazione:Ottica a livello di wafer (WLO), lenti a Fresnel e produzione di griglie a diffrazione
Equipaggiamento:Sistema di curatura delle inondazioni UV LED ad alta uniformità (lunghezza d'onda di 365 nm)
Un produttore di componenti ottici ad alta tecnologia stava lottando con i tassi di rendimento durante la fase di esposizione e indurimento della fabbricazione di micro lenti a livello di wafer.
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Inconsistenza dell' irraggiamento:Le lampade UV tradizionali non sono riuscite a fornire una distribuzione uniforme della luce su grandi superfici di substrato.
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Espansione termica:L'eccessivo calore infrarosso ha deformato le delicate strutture delle lenti sotto-microniche durante il processo di fotolitografia e cura.
Invece delle tradizionali lampadine a mercurio o dei metodi di somministrazione, abbiamo utilizzato unSistema di raffreddamento UV LED ad alta uniformitàcon un'intensità di potenza di potenza superiore a 50 W;
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Esposizione alla resina rivestita di spin:Il sistema fornisce un'esposizione all'inondazione su tutta la superficie direttamente sullo strato di resina fotoresistente/UV con rivestimento a spin attraverso una fotomaschera.
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Progettazione ottica avanzata:Le lenti personalizzate ottimizzano la distribuzione della luce, producendo unUniformità dell'irradiazione entro ± 3%attraverso l'intera area di cura.
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Fonte luminosa vera fredda:Funzionamento ad una velocità precisaSpettro a banda stretta di 365 nm, il sistema elimina le radiazioni infrarosse, mantenendo il substrato a temperatura ambiente per proteggere le microstrutture dalla deformazione termica.
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Consistenza del prodotto senza difetti:I tassi di rigetto causati da carenze di curatura dei bordi sono scesi azero, grazie al campo di luce UV ultrauniforme.
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Integrità strutturale sotto micron:L'eliminazione dello stress termico garantisce una perfetta stabilità dimensionale per le lenti di Fresnel ad alta precisione.
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Miglioramento dell'efficienza produttiva:Le funzionalità di accensione/spena istantanea dei LED UV hanno eliminato i tempi di riscaldamento, massimizzando il throughput per le linee semiconduttrici ad alto volume.
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